آپ لیزر پروٹیکشن میٹریلز کے بارے میں کتنا جانتے ہیں؟ (حصہ 2)

لیزر تحفظ موادلیزر شعاع ریزی کے سامنے آنے پر کارکردگی کا کافی استحکام ہونا چاہیے۔ لیزر شعاع ریزی کے سامنے آنے پر، جذب اثر کو متاثر کرنے کے لیے جاذب کو نمایاں طور پر رنگین یا دھندلا نہیں کیا جا سکتا، اور بنیادی مواد کو بوڑھا یا توڑا نہیں جا سکتا۔

2. لیزر تحفظ مواد nonlinear نظری اصول پر مبنی ہے

غیر خطی حفاظتی مواد کی نظریاتی بنیاد نان لائنر آپٹکس ہے، یعنی مضبوط برقی مقناطیسی میدان اور میڈیم کے درمیان تعامل کی وجہ سے میڈیم کا نان لائنر پولرائزیشن نظریہ۔ مثالی نان لائنر لیزر پروٹیکشن میٹریل میں پورے پروٹیکشن بینڈ میں بہت کم نان لائنر ریسپانس ٹائم ہونا چاہئے اور یہ Q-switched اور موڈ-locked lasers کے تحفظ کے مطابق ڈھال سکتا ہے۔ نان لائنر آپٹیکل گتانک، خاص طور پر تھرڈ آرڈر نان لائنر آپٹیکل گتانک، بڑا ہونا چاہیے، اینٹی لیزر ڈیمیج تھریشولڈ زیادہ ہونا چاہیے، اور جسمانی اور کیمیائی خصوصیات کا مستحکم محدود بینڈ چوڑا ہونا چاہیے۔

2.1 غیر لکیری جذب

غیر لکیری جذب کرنے والا مواد ریورس سنترپتی جذب کرنے والا مواد ہے۔ کمزور لیزر شعاع ریزی کے تحت اینٹی سیچوریٹڈ جذب کرنے والے مواد کا جذب گتانک تقریباً لکیری ہوتا ہے، اور مضبوط لیزر شعاع ریزی کے تحت ان پٹ روشنی کی شدت میں اضافے کے ساتھ میڈیم کا جذب گتانک بڑھتا ہے، تاکہ لیزر کے تحفظ کا احساس ہو سکے۔ اس وقت، ریورس سنترپتی جاذب مواد کی تحقیق پر بہت سی رپورٹس موجود ہیں۔ بشمول ٹولیون، او-زائلین، ٹیٹرا کلوروتھین بطور سالوینٹ C6o حل، C6o/pst جامع مواد C60/pmma جامع مواد؛ انڈینتھرین اور اس کے مشتقات جیسے انڈینچرنگ آکسائڈ، انڈینچرنگ کلورائڈ، انڈینچرنگ اولیگومر وغیرہ؛ آرگنومیٹالک مرکبات؛ فلرین مشتقات 17; قربانی کا مرکب؛ تھرڈ آرڈر نان لائنر پولیمر مواد، جیسے پولی ڈبل فاسٹ، پولی زیڈ فاسٹ، پولی اسٹیرین فاسٹ میٹریل۔

C6o ایک کرہ ہے جو 60 کاربن ایٹموں پر مشتمل ہے، جس میں تین جہتی کروی میسو الیکٹران کوولینٹ ڈھانچہ ہے، اور اس طرح ایک مضبوط آپٹیکل نان لائنیرٹی ہے۔ Yindanshilin کی لیزر تحفظ کی قیمت زیادہ ہے، اعلی توانائی لیزر ٹرانسمیشن بہت کم ہے، اور تحفظ کی کارکردگی اچھی ہے؛ Yindanshilin derivatives کی لیزر جذب کی حد نسبتاً کم ہے، اور لیزر تحفظ کی کارکردگی ناقص ہے۔

ہیوی میٹل CAI Xianjing مرکبات میں اعلی کو-ہیوی دو جہتی ہوتے ہیں۔ الیکٹرانک نظام کو 60 سے زیادہ مختلف دھاتی ایٹموں کے ساتھ ملایا جا سکتا ہے۔ الیکٹران سسٹم کے بڑے ڈی-ریجنلائزیشن اور میٹل-لیگینڈ بانڈ کے چارج ٹرانسفر کی وجہ سے، یہ ایک بڑے نان لائنر پولرائزیشن کو ظاہر کرتا ہے۔

2.2 غیر لکیری بکھرنا

ایک نان لائنر آپٹیکل میٹریل دو میڈیا پر مشتمل ہوتا ہے جس میں مماثل لکیری ریفریکٹیو انڈیکس ہوتے ہیں لیکن مختلف نان لائنر ریفریکٹیو انڈیکس لیزر کے عمل کے تحت نان لائنر آپٹیکل میٹریل کی خصوصیات رکھتے ہیں۔ غیر لکیری بکھرنے کی خصوصیت یہ ہے کہ جب کمزور روشنی کا واقعہ، ہائی ٹرانسمیشن دکھاتا ہے تو کوئی بکھرنے والا اثر نہیں ہوتا ہے۔ جب ایک مضبوط روشنی کا واقعہ ہوتا ہے تو، بکھرنے کا اثر بہت بڑھ جاتا ہے، کم ٹرانسمیشن دکھاتا ہے. وہ صرف دو مختلف مادوں پر مشتمل غیر لکیری بکھرنے والوں میں پائے جاتے ہیں۔ یہ غیر لکیری بکھرنے والا مائع اور ذرات کا معطلی ہو سکتا ہے، جیسے کولائیڈل کاربن سسپنشن، یا یہ دو ٹھوس مرکبات پر مشتمل ٹھوس مخلوط میڈیم ہو سکتا ہے۔

2.3 نان لائنر ریفریکشن

نان لائنر ریفریکشن میں فوٹو ریفریکٹیو، خود فوکسنگ، اور سیلفی ڈی فوکسنگ شامل ہیں تین قسم کے فوٹو ریفریکٹیو لمٹنگ ہے فوٹو ریفریکٹیو اثر کا استعمال بکھری ہوئی روشنی کو بڑھاوا دینے کے لیے، تاکہ انسانی روشنی کو بکھری ہوئی روشنی کی منتقلی کی توانائی کو، تاکہ منتقل شدہ روشنی کی شدت کو محدود کیا جا سکے: خود ساختہ مواد کا استعمال کرنے کے لیے غیر خطوط پر توجہ مرکوز کرنے کے لیے مواد کا استعمال کیا جاتا ہے۔ محوری تبدیلی کا اضطراری اشاریہ n=n0 پلس n21، 7 مادی اضطراری اشاریہ گتانک؛ روشنی کی شدت ہے۔ n20 پر، شہتیروں کو اکٹھا کرنے کے لیے خود فوکس کرنے کا طریقہ استعمال کیا جاتا ہے۔ 0 پر، روشنی کو ڈائیورج کرنے کے لیے سیلف ڈی فوکس کرنے کا طریقہ استعمال کیا جاتا ہے تاکہ آؤٹ پٹ لائٹ کو محدود کرنے کا مقصد مضبوط اور چھوٹا ہو حاصل کیا جا سکے۔ اس طرح کے مواد میں غیر نامیاتی مادے جیسے فیرو الیکٹرک ٹنگسٹن کاپر SNB60 اور BSKNN-60 سنگل کرسٹل اور کچھ نامیاتی پولیمر شامل ہیں۔

2.4 نان لائنر ریفلیکشن

لکیری مواد اور غیر خطی مواد پر مشتمل انٹرفیس کو نان لائنر انٹرفیس کہا جاتا ہے۔ اگر نان لائنر میٹریل کا ریفریکٹیو انڈیکس مثبت ہے تو نان لائنر میٹریل کا ریفریکٹیو انڈیکس نان لائنر میٹریل کے ریفریکٹیو انڈیکس سے زیادہ ہونا ضروری ہے۔ جب روشنی کا واقعہ لکیری مواد سے انٹرفیس تک ہوتا ہے، تو واقعہ کا زاویہ کل انعکاس کی نازک زاویہ کی شرط کو پورا کرتا ہے۔ جب کمزور روشنی کا واقعہ، کیونکہ کل انعکاس کی شرط پوری ہو جاتی ہے، تو واقعہ کی روشنی مکمل طور پر منعکس ہو جاتی ہے۔ جب مضبوط لیزر فائر کیا جاتا ہے تو، نان لائنر ریفریکٹیو انڈیکس بہت بدل جاتا ہے، کل عکاسی کی حالت تباہ ہو جاتی ہے، روشنی کی توانائی کا کچھ حصہ منتقل ہو جاتا ہے، اور منعکس روشنی کی شدت کمزور ہو جاتی ہے، تاکہ تحفظ کا مقصد حاصل کیا جا سکے۔ بلاشبہ، مخالف نان لائنر علامتوں کے ساتھ دو نان لائنر آپٹیکل مواد پر مشتمل نان لائنر انٹرفیس بھی لیزر پروٹیکشن کا اثر حاصل کرسکتا ہے۔

3. تھرمل مرحلے آسان حفاظتی مواد

چونکہ لیزر اور مواد کے درمیان تعامل سب سے پہلے تھرمل اثر ہے، کچھ مواد کے تھرمل مرحلے کی منتقلی کا طریقہ کار مضبوط لیزر تحفظ حاصل کرنے کے لیے استعمال کیا جا سکتا ہے۔ اس وقت، VO پتلی فلم مواد سب سے زیادہ مطالعہ کیا جاتا ہے. VO فلم تھرموٹروپک فیز چینج میٹریل کی ایک قسم ہے۔ اس میں کمرے کے درجہ حرارت کے قریب ایک مونوکلینل ڈھانچہ اور سیمی کنڈکٹر حالت ہے۔ بینڈ گیپ 0.7eV ہے اور متعلقہ کٹ آف ویو لینتھ 1800nm ​​ہے۔ جب درجہ حرارت 68C تک بڑھ جاتا ہے تو ساخت آرتھوگونل اور دھاتی ہو جاتی ہے۔ جب VO پتلی فلم پر لیزر بیم کو شعاع کیا جاتا ہے، مواد کو گرم کیا جاتا ہے، اور سیمی کنڈکٹر-میٹل فیز کی منتقلی کا عمل ہوتا ہے، اس عمل کے ساتھ، اس کی فوٹو الیکٹرک خصوصیات بہت بدل جائیں گی، خاص طور پر انفراریڈ خصوصیات ہائی ٹرانسمیشن سے ہائی ریفلیکشن میں بدل جائیں گی۔ VO فلموں کی آپٹیکل خصوصیات کو انفراریڈ روشنی اور برقی مقناطیسی تابکاری کے حملے کو روکنے کے لیے استعمال کیا جا سکتا ہے، اس طرح لیزر تحفظ حاصل کیا جا سکتا ہے۔

رابطے کی معلومات:

اگر آپ کے پاس کوئی آئیڈیا ہے تو بلا جھجھک ہم سے بات کریں۔ اس سے کوئی فرق نہیں پڑتا ہے کہ ہمارے گاہک کہاں ہیں اور ہماری ضروریات کیا ہیں، ہم اپنے صارفین کو اعلیٰ معیار، کم قیمتوں اور بہترین سروس فراہم کرنے کے اپنے مقصد کی پیروی کریں گے۔